Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung davon

EP3199662 Art A1 2. August 2017

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3199662
Aktenzeichen: EP15845101
Anmeldetag: 17. September 2015
Veröffentlichung: 2. August 2017
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/34B22F1/00C22C9/00C22C28/00C22C32/00C22C1/04B22F9/08H01J37/34C23C14/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von