Wässriges Indium- oder Indiumlegierungsplattierungsbad und Verfahren zur Abscheidung von Indium oder einer Indiumlegierung

EP3199666 Art B1 26. September 2018

Anmelder: MKS IP Association, Atotech Deutschland GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3199666
Aktenzeichen
EP16153379
Anmeldetag
29. Januar 2016
Veröffentlichung
26. September 2018
Erteilung
26. September 2018
Rechtsraum
EP
IPC
C25D3/54C25D3/56C25D5/10C25D5/18C25D5/48// C25D5/40
Offizieller Volltext

Abstract

An aqueous indium or indium alloy plating bath comprising - a source of indium ions, - an acid, - a source of halide ions, - a surfactant according to formula (I) wherein A is selected from branched or unbranched C 10 -C 15 -alkyl; B is selected from the group consisting of hydrogen and alkyl; m is an integer ranging from 5 to 25; each R is independently from each other selected from hydrogen and methyl; and - a dihydroxybenzene derivative of formula (II) wherein each X is independently selected from fluorine, chlorine, bromine, iodine, alkoxy, and nitro; n is an integer ranging from 1 to 4, and a process for deposition of indium or an indium alloy wherein said bath is used.

Anmelder

Firmen
MKS IP Association
Atotech Deutschland GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 MKS IP Association

Der Anmelder MKS IP Association ist eine in Deutschland ansässige Patentverwertungsgesellschaft. Das Portfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Elektronik- und Halbleitertechnik, etwa im Bereich industrieller Reinigungs- und Beschichtungsprozesse. Anmeldungen erfolgten von 2000 bis 2020.

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🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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