Plasmaätzvorrichtung und Plasmaätzverfahren

EP3200220 Art B1 25. Dezember 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3200220
Aktenzeichen: EP17160784
Anmeldetag: 5. Oktober 2007
Veröffentlichung: 25. Dezember 2019
Erteilung: 25. Dezember 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065H01L21/768H05H1/46H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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