Verfahren zur Plasmaverarbeitung und Vorrichtung zur Plasmaverarbeitung

EP3206223 Art B1 17. Juli 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3206223
Aktenzeichen: EP15849097
Anmeldetag: 25. September 2015
Veröffentlichung: 17. Juli 2019
Erteilung: 17. Juli 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065C23C16/44C23C16/50H01L21/205H05H1/46C23C16/02C23C16/509H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von