Verfahren zur Herstellung einer Sensorvorrichtung

EP3214434 Art B1 4. Dezember 2019

Anmelder: Sensirion AG 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3214434
Aktenzeichen
EP16158555
Anmeldetag
3. März 2016
Veröffentlichung
4. Dezember 2019
Erteilung
4. Dezember 2019
Rechtsraum
EP
IPC
G01N27/22
Offizieller Volltext

Abstract

A method for fabrication of a sensor device (1) for measuring a parameter of a test substance, comprising: i) providing a substrate; ii) arranging on its front side a structured first protection layer (2); iii) arranging on the substrate with the structured first protection layer (2) a stack including first and second electrodes (3,4), a sacrificial layer between the first and second electrodes (3,4); and iv) etching in an etching step from the back side through the substrate such as to remove material of the semiconductor substrate and the sacrificial layer. The present invention also relates to such a sensor device (1).

Anmelder

Firma
Sensirion AG
Land
🇨🇭 Schweiz
🇨🇭 Sensirion

Sensirion ist ein Schweizer Hersteller von Umwelt- und Durchflusssensoren mit Sitz in Stäfa. Das Patentportfolio ist stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik fokussiert, ergänzt durch Halbleiterbauelemente und Nachrichtentechnik. Anmeldungen laufen von 2000 bis in die Gegenwart.

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