Reinigungslösung für ein Halbleiterelement zur Unterdrückung von Schäden an Kobalt und Verfahren zum Reinigen eines Halbleiterelements damit
EP3220409
Art B1
5. August 2020
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3220409
- Aktenzeichen
- EP15859334
- Anmeldetag
- 2. Oktober 2015
- Veröffentlichung
- 5. August 2020
- Erteilung
- 5. August 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/304C11D7/06C11D7/10C11D7/18C11D7/32C11D7/38H01L21/308H01L21/02H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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