Vorrichtung zur Filmformung

EP3223301 Art B1 14. April 2021

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3223301
Aktenzeichen: EP15861765
Anmeldetag: 9. November 2015
Veröffentlichung: 14. April 2021
Erteilung: 14. April 2021
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/205C23C16/46C30B25/10C30B25/12C23C16/455C23C16/458C23C16/32H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von