Substratverarbeitungssystem Einschliesslich einer Spule mit Rf-Betriebenem Faraday-Schirm

EP3226280 Art A1 4. Oktober 2017

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3226280
Aktenzeichen
EP17162738
Anmeldetag
24. März 2017
Veröffentlichung
4. Oktober 2017
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/32
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
LAM Research Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen