Substratverarbeitungssystem Einschliesslich einer Spule mit Rf-Betriebenem Faraday-Schirm
EP3226280
Art A1
4. Oktober 2017
Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3226280
- Aktenzeichen
- EP17162738
- Anmeldetag
- 24. März 2017
- Veröffentlichung
- 4. Oktober 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
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