Verbessertes Verfahren für Nife Nife-Fluxgatevorrichtung
EP3227402
Art B1
18. Januar 2023
Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3227402
- Aktenzeichen
- EP15864348
- Anmeldetag
- 2. Dezember 2015
- Veröffentlichung
- 18. Januar 2023
- Erteilung
- 18. Januar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23F1/28C23F1/02C09K13/06C09K13/04G01R33/04H01L21/3213
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Texas Instruments Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
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