Umweltsystem mit Vakuumrücklauf für eine Immersionslithografievorrichtung

EP3232271 Art A1 18. Oktober 2017

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3232271
Aktenzeichen: EP17161308
Anmeldetag: 29. März 2004
Veröffentlichung: 18. Oktober 2017
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03B27/32G03B27/42C23C16/44H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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