Verbindung, Harz Unterschichtfilmbildendes Material für die Lithografie, Unterschichtfilm für die Lithografie, Strukturbildungsverfahren und Reinigungsverfahren
EP3239141
Art A1
1. November 2017
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3239141
- Aktenzeichen
- EP15872783
- Anmeldetag
- 14. Dezember 2015
- Veröffentlichung
- 1. November 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07D311/78C08G8/04C08G18/30G03F7/11G03F7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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