Reinigungszusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Dünnen Substraten
EP3240018
Art B1
15. Dezember 2021
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3240018
- Aktenzeichen
- EP17167334
- Anmeldetag
- 20. April 2017
- Veröffentlichung
- 15. Dezember 2021
- Erteilung
- 15. Dezember 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/311C09J183/04H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.656 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
721
Patente gesamt
32
Fachgebiete
9
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Ter Meer Steinmeister & Partner
Ter Meer Steinmeister & Partner · München