Verfahren zum Einkapseln eines Basismaterials mit einem Grossflächigen Halbleiterbauelement
EP3242321
Art A1
8. November 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3242321
- Aktenzeichen
- EP17166464
- Anmeldetag
- 13. April 2017
- Veröffentlichung
- 8. November 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/29
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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