Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung
EP3244262
Art A1
15. November 2017
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3244262
- Aktenzeichen
- EP16735039
- Anmeldetag
- 5. Januar 2016
- Veröffentlichung
- 15. November 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/16G03F7/20G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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