Lösung und Verfahren zur Entfernung von Gruppe-Iii-V-Elementoxid, Lösung zur Behandlung einer Gruppe Iii-V-Elementverbindung, Lösung zur Verhinderung der Oxidation eines Gruppe-Iii-V-Elements, Lösung zur Behandlung eines Halbleitersubstrats und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstratprodukts
EP3258485
Art B1
24. November 2021
Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3258485
- Aktenzeichen
- EP16749153
- Anmeldetag
- 4. Februar 2016
- Veröffentlichung
- 24. November 2021
- Erteilung
- 24. November 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/306H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München