Halbleiterschaltvorrichtung

EP3261120 Art B1 1. Mai 2019

Anmelder: NXP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3261120
Aktenzeichen
EP16290115
Anmeldetag
24. Juni 2016
Veröffentlichung
1. Mai 2019
Erteilung
1. Mai 2019
Rechtsraum
EP
IPC
H01L27/02H01L29/06H01L29/417
Offizieller Volltext

Abstract

A semiconductor switch device and a method of making the same. The semiconductor switch device includes a field effect transistor located on a semiconductor substrate. The field effect transistor includes a plurality of gates. Each gate includes a gate electrode and gate dielectric arranged in a loop on a major surface of the substrate. The loops formed by the gates are arranged concentrically. Each gate has a source region located adjacent an inner edge or outer edge of the loop formed by that gate and a drain region located adjacent the other edge of said inner edge and said outer edge of the loop formed by that gate.

Anmelder

Firma
NXP B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 NXP Semiconductors

Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.

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