Verbindung, Harz, Material zur Bildung eines Unterschichtfilms für die Lithografie, Unterschichtfilm für die Lithografie, Strukturbildungsverfahren und Verfahren zur Reinigung einer Verbindung oder eines Harzes
EP3266759
Art B1
13. September 2023
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3266759
- Aktenzeichen
- EP16761605
- Anmeldetag
- 2. März 2016
- Veröffentlichung
- 13. September 2023
- Erteilung
- 13. September 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C39/15C07C37/20C07C37/72C08G8/04C08G8/20G03F7/11G03F7/039G03F7/09C09D161/12// C08G8/02H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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