Unterschichtfilmbildendes Material für die Lithografie, Unterschichtfilmbildende Zusammensetzung für die Lithografie, Unterschichtfilm für die Lithografie, Resiststrukturbildungsverfahren und Schaltkreisstrukturbildungsverfahren

EP3267256 Art A1 10. Januar 2018

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3267256
Aktenzeichen: EP16758775
Anmeldetag: 19. Februar 2016
Veröffentlichung: 10. Januar 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11C08G14/12G03F7/40H01L21/027C08G73/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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