Kohlenstoffdotierungsgas und Co-Flow zur Optimierung der Implantatstrahl- und Quellenlebensdauerleistung

EP3267470 Art A3 18. April 2018

Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3267470
Aktenzeichen
EP17180899
Anmeldetag
13. Februar 2013
Veröffentlichung
18. April 2018
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/265H01J37/317H01J37/08
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Entegris, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

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