Verbindung, Harz, Material zur Herstellung eines Unterschichtfilms für Lithographie, Zusammensetzung zur Herstellung eines Unterschichtfilms für Lithographie, Unterschichtfilm für Lithographie, Strukturbildungsverfahren und Verfahren zur Reinigung einer Verbindung oder eines Harzes
EP3269712
Art A1
17. Januar 2018
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3269712
- Aktenzeichen
- EP16764819
- Anmeldetag
- 9. März 2016
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07D209/86C07D405/04C08G61/12G03F7/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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