Verbindung, Harz und Verfahren zur Reinigung Davon, Unterschichtfilmbildungsmaterial für Lithographie, Unterschichtfilmbildungszusammensetzung sowie Unterschichtfilm und Verfahren zur Bildung eines Resistmusters und Verfahren zur Bildung eines Schaltungsmusters
EP3279179
Art B1
18. Dezember 2019
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3279179
- Aktenzeichen
- EP16772340
- Anmeldetag
- 17. März 2016
- Veröffentlichung
- 18. Dezember 2019
- Erteilung
- 18. Dezember 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C39/367C07C37/72C07C41/38C07C43/23C08G8/20G03F7/11H01L21/027C08F32/08C08K5/00C08K5/07C08K5/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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