Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, Amorpher Film und Resiststrukturformungsverfahren

EP3279730 Art A1 7. Februar 2018

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3279730
Aktenzeichen: EP16772339
Anmeldetag: 17. März 2016
Veröffentlichung: 7. Februar 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/022C08F214/18G03F7/004G03F7/038C07C39/15C08G8/04C08G8/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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