Positive Resistzusammensetzung, Verfahren zur Resiststrukturbildung und Fotomaskenrohling
EP3279734
Art B1
25. Juli 2018
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3279734
- Aktenzeichen
- EP17183703
- Anmeldetag
- 28. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 25. Juli 2018
- Erteilung
- 25. Juli 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004
Abstract
A positive resist composition comprising a polymer adapted to be decomposed under the action of acid to increase its solubility in alkaline developer and a sulfonium compound of specific structure has a high resolution. When the resist composition is processed by lithography, a pattern with minimal LER can be formed.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
721
Patente gesamt
32
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Ter Meer Steinmeister & Partner
Ter Meer Steinmeister & Partner · München