Messverfahren und -Vorrichtung, Computerprogramm und Lithographisches System
EP3279735
Art A1
7. Februar 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3279735
- Aktenzeichen
- EP16182166
- Anmeldetag
- 1. August 2016
- Veröffentlichung
- 7. Februar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
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1
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