Material zur Formung eines Unterschichtfilms zur Lithographie, Zusammensetzung zur Formung eines Unterschichtfilms zur Lithographie, Unterschichtfilm zur Lithographie und Strukturformungsverfahren

EP3282318 Art A1 14. Februar 2018

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3282318
Aktenzeichen: EP16776622
Anmeldetag: 7. April 2016
Veröffentlichung: 14. Februar 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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