Material zur Formung eines Unterschichtfilms zur Lithographie, Zusammensetzung zur Formung eines Unterschichtfilms zur Lithographie, Unterschichtfilm zur Lithographie und Strukturformungsverfahren
EP3282319
Art A1
14. Februar 2018
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3282319
- Aktenzeichen
- EP16776623
- Anmeldetag
- 7. April 2016
- Veröffentlichung
- 14. Februar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11C08G73/06G03F7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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