Material zur Formung eines Unterschichtfilms zur Lithographie, Zusammensetzung zur Formung eines Unterschichtfilms zur Lithographie, Unterschichtfilm zur Lithographie und Strukturformungsverfahren

EP3282319 Art A1 14. Februar 2018

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3282319
Aktenzeichen
EP16776623
Anmeldetag
7. April 2016
Veröffentlichung
14. Februar 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/11C08G73/06G03F7/26
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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