Zusammensetzung zur Bildung einer N-Leitenden Diffusionsschicht, Verfahren zur Bildung einer N-Leitenden Diffusionsschicht und Verfahren zur Herstellung einer Fotovoltaischen Zelle
EP3282470
Art A1
14. Februar 2018
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3282470
- Aktenzeichen
- EP17191568
- Anmeldetag
- 22. April 2011
- Veröffentlichung
- 14. Februar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/225C03C8/18H01L31/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München