Substrathalteverfahren, Substrathaltevorrichtung, Verarbeitungsverfahren und Verarbeitungsvorrichtung

EP3282475 Art B1 8. September 2021

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3282475
Aktenzeichen: EP16776316
Anmeldetag: 10. Februar 2016
Veröffentlichung: 8. September 2021
Erteilung: 8. September 2021
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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