Ätzmaske, Ätzmaskenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Oxidschicht und Verfahren zur Herstellung eines Dünnschichttransistors
EP3285283
Art A1
21. Februar 2018
Anmelder: Japan Advanced Institute of Science and Technology, Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3285283
- Aktenzeichen
- EP16779856
- Anmeldetag
- 14. März 2016
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01L21/336H01L29/786H01L29/66H01L27/12H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Japan Advanced Institute of Science and Technology
Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd.
Japanisches Chemieunternehmen der Sumitomo-Gruppe mit Sitz in Hyogo, Hersteller von Spezialchemikalien und Polymeren, unter anderem superabsorbierenden Polymeren. Patente betreffen vor allem Polymer- und Materialtechnik.
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