Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung davon
EP3293284
Art A1
14. März 2018
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3293284
- Aktenzeichen
- EP17196167
- Anmeldetag
- 25. Februar 2014
- Veröffentlichung
- 14. März 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B22F3/14B22F3/15C22C1/04C22C9/00C22F1/08C22C28/00C22F1/00C22F1/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
1.978 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München