Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Halbleiterwafern
EP3298622
Art B1
4. August 2021
Anmelder: ACM Research (Shanghai) Inc. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3298622
- Aktenzeichen
- EP15892190
- Anmeldetag
- 20. Mai 2015
- Veröffentlichung
- 4. August 2021
- Erteilung
- 4. August 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02B08B3/12B08B3/10H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ACM Research (Shanghai) Inc.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
ACM Research (Shanghai)
ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.
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Vertreten von
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Osha BWB
Osha BWB · Paris
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Osha Liang
Osha Liang · Paris