Musterbildungsverfahren unter Verwendung eines Filmmaterials

EP3309613 Art B1 5. April 2023

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3309613
Aktenzeichen: EP17196307
Anmeldetag: 13. Oktober 2017
Veröffentlichung: 5. April 2023
Erteilung: 5. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11G03F7/16G03F7/038G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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