Vorrichtungswärmeableitungsverfahren

EP3310142 Art A1 18. April 2018

Anmelder: Loveox Co., Ltd., Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3310142
Aktenzeichen: EP16811539
Anmeldetag: 9. Juni 2016
Veröffentlichung: 18. April 2018
Rechtsraum: EP
IPC: H05K7/20B32B7/02B32B27/00B32B7/12B32B15/09B32B15/20B32B27/08B32B27/20B32B27/28B32B37/12H05K5/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Loveox Co., Ltd.
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von