Verfahren zur Bestimmung der Korrekturen für ein Strukturierungsverfahren, Vorrichtungsherstellungsverfahren, Steuerungssystem für Lithografievorrichtung und Lithografievorrichtung

EP3312672 Art A1 25. April 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3312672
Aktenzeichen
EP16195047
Anmeldetag
21. Oktober 2016
Veröffentlichung
25. April 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F/
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen