Fotolithografische Vorrichtung zum Erzeugen eines Musters auf einem Fotoresistsubstrat
EP3312674
Art A1
25. April 2018
Anmelder: Thomson Licensing 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3312674
- Aktenzeichen
- EP16306385
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2016
- Veröffentlichung
- 25. April 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/50G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Thomson Licensing
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Thomson Licensing
Ehemalige französische Patentverwertungs- und Lizenzierungsgesellschaft des Thomson-Konzerns mit Sitz in Paris, heute Teil von InterDigital. Hielt umfangreiche Patentportfolios in Video-, Rundfunk- und Unterhaltungselektroniktechnologien.
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Vertreten von
Huchet, Anne
Issy-les-Moulineaux, Frankreich
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