Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

EP3323020 Art B1 16. September 2020

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3323020
Aktenzeichen
EP16735594
Anmeldetag
20. Juni 2016
Veröffentlichung
16. September 2020
Erteilung
16. September 2020
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G21K1/06G02B27/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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