Lithographische Vorrichtung, Flüssigkeitssteuerungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP3323021
Art A1
23. Mai 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3323021
- Aktenzeichen
- EP16738442
- Anmeldetag
- 13. Juli 2016
- Veröffentlichung
- 23. Mai 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B27/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Verhoeven, Johannes Theodorus Maria
Veldhoven, Niederlande
7
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria
NoneVeldhoven