Verfahren zur Durchführung von Dosismodulierung, insbesondere für Elektronenstrahllithographie

EP3326192 Art A1 30. Mai 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc., Aselta Nanographics 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3326192
Aktenzeichen
EP16744685
Anmeldetag
19. Juli 2016
Veröffentlichung
30. Mai 2018
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/302H01J37/317
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Applied Materials, Inc.
Aselta Nanographics
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Kanzlei
Marks & Clerk France Arcueil, Frankreich

Der Standort in Arcueil bei Paris firmierte als Marks & Clerk France, 2005 gegründet, Schwerpunkt europäische Patente in Elektronik, Informatik und Telekommunikation. 2022 von der Vidon-Gruppe übernommen und als Atout[PI] Laplace weitergeführt, einer der größten französischen IP-Beratungsverbünde.

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