Verbindung, Harz, Unterschichtfilmbildendes Material für die Lithographie, Zusammensetzung zur Bildung eines Unterschichtfilms für die Lithographie, Unterschichtfilm für Lithographie, Resistmustererzeugungsverfahren, Schaltungsmustererzeugungsverfahren und Reinigungsverfahren

EP3327005 Art A1 30. Mai 2018

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3327005
Aktenzeichen: EP16827751
Anmeldetag: 15. Juli 2016
Veröffentlichung: 30. Mai 2018
Rechtsraum: EP
IPC: C07D233/64C07D405/04C08G8/36C08G16/00G03F7/11G03F7/26H01L21/027G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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