Mehrschichtstruktur mit Wasserundurchlässigem Substrat
EP3328660
Art B1
15. Dezember 2021
Anmelder: Eastman Kodak Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3328660
- Aktenzeichen
- EP16751056
- Anmeldetag
- 15. Juli 2016
- Veröffentlichung
- 15. Dezember 2021
- Erteilung
- 15. Dezember 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B41M5/50B41M3/00B41M5/52B41M7/00B41M5/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Eastman Kodak Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Eastman Kodak
US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Rochester (New York), traditionell führend in Fotografie- und Bildgebungstechnik. Aktiv in Drucktechnologien, Filmmaterialien sowie chemischer und optischer Bildverarbeitung.
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