Zusammensetzung für Funktionsschicht einer Wasserfreien Sekundärzelle, Funktionsschicht für Wasserfreie Sekundärzelle und Wasserfreie Sekundärzelle

EP3336930 Art B1 2. Dezember 2020

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3336930
Aktenzeichen
EP16834799
Anmeldetag
21. Juli 2016
Veröffentlichung
2. Dezember 2020
Erteilung
2. Dezember 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01M2/16H01M4/13H01M4/62
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Zeon Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Kanzlei
Maiwald Patentanwalts- und München, Deutschland

Firmiert seit Oktober 2022 als Maiwald GmbH, mit Standorten in München und Düsseldorf eine der größten deutschen Kanzleien im gewerblichen Rechtsschutz. Deckt Anmeldestrategie bis Litigation vor dem Einheitlichen Patentgericht sowie Lizenz- und M&A-Beratung ab, mit starker Anbindung an ostasiatische Mandanten.

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