Lithografiematerial und Herstellungsverfahren Dafür, Lithografiezusammensetzung, Musterbildungsverfahren, Verbindung, Harz und Veredelungsverfahren für Verbindung und Harz
EP3343290
Art A1
4. Juli 2018
Anmelder: A School Corporation Kansai University, Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3343290
- Aktenzeichen
- EP16839290
- Anmeldetag
- 23. August 2016
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004C07C395/00G03F7/038G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- A School Corporation Kansai University
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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