Lithographisches Verfahren und Vorrichtung sowie Prüfverfahren und Vorrichtung

EP3343294 Art A1 4. Juli 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3343294
Aktenzeichen
EP16207472
Anmeldetag
30. Dezember 2016
Veröffentlichung
4. Juli 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G03F9/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen