Verwendung einer Zusammensetzung zur Formung eines Fotoresist- Unterschichtfilms für Lithografie, Fotoresist-Unterschichtfilm für Lithographie und dessen Produktionsverfahren und Verfahren zur Formung einer Resiststruktur

EP3346334 Art B1 12. August 2020

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3346334
Aktenzeichen: EP16841675
Anmeldetag: 25. August 2016
Veröffentlichung: 12. August 2020
Erteilung: 12. August 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11H01L21/027C07D405/04G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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