Material zur Bildung von Unterschichtfilmen zur Lithographie, Zusammensetzung zur Bildung von Unterschichtfilmen zur Lithographie, Unterschichtfilme zur Lithographie und Verfahren zur Herstellung Davon, Musterbildungsverfahren, Harz und Reinigungsverfahren

EP3346335 Art A1 11. Juli 2018

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3346335
Aktenzeichen: EP16841677
Anmeldetag: 25. August 2016
Veröffentlichung: 11. Juli 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/09C07D311/78H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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