Zusammensetzung für Funktionsschicht einer Wasserfreien Sekundärzelle, Funktionsschicht für Wasserfreie Sekundärzelle und Wasserfreie Sekundärzelle
EP3346521
Art B1
4. März 2020
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3346521
- Aktenzeichen
- EP16841102
- Anmeldetag
- 26. August 2016
- Veröffentlichung
- 4. März 2020
- Erteilung
- 4. März 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01M2/16H01M4/13H01M4/131H01M4/139H01M4/1391H01M10/052
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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