Substratvorbehandlung und Ätzgleichmässigkeit in der Nano-Imprint-Lithografie

EP3347410 Art B1 19. Juni 2024

Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3347410
Aktenzeichen
EP16844935
Anmeldetag
6. September 2016
Veröffentlichung
19. Juni 2024
Erteilung
19. Juni 2024
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Canon Kabushiki Kaisha
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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