Substratvorbehandlung und Ätzgleichmässigkeit in der Nano-Imprint-Lithografie
EP3347410
Art B1
19. Juni 2024
Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3347410
- Aktenzeichen
- EP16844935
- Anmeldetag
- 6. September 2016
- Veröffentlichung
- 19. Juni 2024
- Erteilung
- 19. Juni 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Canon Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.
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