Magnetische Linse und Erregerstromsteuerungsverfahren

EP3357079 Art B1 21. Juni 2023

Anmelder: Focus-eBeam Technology (Beijing) Co., Ltd., ASML Netherlands B.V. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3357079
Aktenzeichen: EP17807685
Anmeldetag: 5. September 2017
Veröffentlichung: 21. Juni 2023
Erteilung: 21. Juni 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/141H01J37/24H01J37/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Focus-eBeam Technology (Beijing) Co., Ltd.
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇨🇳 China

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von