Musterbildungsverfahren
EP3367164
Art B1
13. November 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3367164
- Aktenzeichen
- EP18157353
- Anmeldetag
- 19. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 13. November 2019
- Erteilung
- 13. November 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/34G03F7/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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