Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung des Sputtertargets
EP3369842
Art B1
27. Januar 2021
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation, Solar Frontier K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3369842
- Aktenzeichen
- EP16859744
- Anmeldetag
- 24. Oktober 2016
- Veröffentlichung
- 27. Januar 2021
- Erteilung
- 27. Januar 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C22C28/00B22F9/08C22C1/04C22C9/00// B22F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Mitsubishi Materials Corporation
Solar Frontier K.K. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München